泛半导体生产过程中大量使用的化学品与特殊气体，持续产生成分复杂的工艺废气。废气治理直接影响客户的产能利用率、产品良率，以及员工职业健康、生产环境。针对各工艺段产生的废气，盛剑环境提供一般排气、酸性、碱性、有毒、VOCs等废气系统解决方案。

光电显示

TFT-LCD的阵列、彩膜、成盒、模组工序产生大量有害废气，包括酸性、碱性、有机废气及含氟废气等。

AMOLED的阵列、模组工序产生酸性、碱性、有机等工艺废气。

集成电路

集成电路制造的核心工艺流程主要包括掺杂、光刻、刻蚀和薄膜工艺。在硅片清洗、氧化、湿法腐蚀、干法腐蚀、离子注入、扩散、化学气相沉积等环节产生大量酸碱、砷烷、磷烷、有机等工艺废气。

泛半导体工艺废气解决方案

化学品供应与回收系统解决方案

得益于泛半导体产业工艺废气治理的服务口碑，以及对产业制程的深刻理解，盛剑逐步进入化学品供应与回收领域。

化学品供应系统

将化学品由原材料供应商提供的盛装容器内，输送至工艺设备使用点，并根据需要配备稀释、混配、过滤等功能。

有机溶剂回收系统

将使用后的有机溶剂进行提纯再生。根据需要添加单组分或添加剂，调剂至原液标准后循环使用。