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重庆京东方项目
昆山国显光电项目

 

      公司的工艺废气治理系统解决方案综合应用了中央治理和源头控制技术,以定制化的中央治理系统为核心。公司根据不同客户的产品工艺流程、废气成分、空间布局等因素,定制化设计治理方案、设备选型、控制系统、排放布局等,以实现中央治理系统与客户工艺设备的深度整合,并安全稳定地自动化运行。工艺废气治理系统包括:酸碱废气处理、有毒废气处理、VOCs处理、一般排气等。

 

酸碱废气处理系统

酸碱废气处理系统的核心设备是湿式洗涤塔,通过控制洗涤塔中水的酸碱度、电导度等参数,废气与循环水的接触方式为:交叉逆流或垂直截流,使废气在洗涤塔中与循环水进行充分接触,通过中和反应,吸收废气中的酸性或碱性物质。洗涤塔内安装有填料床,用于增大废气与水的接触面积;循环水槽内的中和药通过循环水泵喷淋至填料床,使废气污染物与中和液体接触;加药泵、pH计用于控制pH值;液位计、电导度计用于控制排水和补水;压差传感器、压力传感器用于监控系统的运行情况。

应用领域:光电显示、集成电路等泛半导体行业。

挥发性有机废气处理系统(VOCs)

 

 

 

 

 

 

 


                                                                 

 

1、蓄热燃烧式:沸石浓缩转轮+蓄热式燃烧工艺处理有机废气的原理,是将大风量低浓度废气经转轮浓缩成小风量高浓度废气,再将高浓度有机废气通入蓄热式燃烧装置(RTO);利用700-900℃高温,使有机化合物裂解为无害的CO2以及H2O,处理后的有机废气可达标排放。
2、冷凝处理式:利用高沸点有机物在不同温度和压力下具有不同饱和蒸气压这一性质,采用降低系统温度或提高系统压力,使其从气态转变为液态的分离方法,凝结成液滴,靠重力作用落到凝结区下部的储液槽中(针对排气中的亚微米级液体,采用布朗运动随机扩散超细玻纤滤材拦截捕集方式)。

应用领域:光电显示、集成电路等泛半导体行业及其他涉及VOCs排放的行业。

有毒废气处理系统

 

 

毒性废气:其主要来源为化学气相沉积(CVD)干刻蚀机、扩散、离子植入机等工艺时所产生,由于以上之工艺均使用大量特种气体,产生了含粉尘、NOx、氟化物等毒性气体,因此在其机台本身即设置有L/S作先行处理,再送至中央治理系统经除尘设备除去含氟粉尘后,进行多级洗涤处理,再排入大气。

应用领域:光电显示、集成电路等泛半导体行业。   

 

 

 

 

 

 

 


                                                                 

 

一般排气系统

 

 

泛半导体生产工艺中一些设备局部会产生大量的热或产生会对高洁净度生产环境造成影响的含尘气体。对部分设备热排气的洁净度抽样检测发现,由于含尘气体直接来自洁净室内,含尘浓度极低,总风管处检测结果仍为洁净级别;对设备排放点的温度测量显示,不同设备和排放点热排气温度差异较大,最高超过42℃,但总排放口的温度测量不超过26℃,只略高于洁净室温度,仍属于室温范围。因此上述气体可以直接排放至大气环境,不需做任何处理,为无害排放。

应用领域:涉及无毒无害气体排放行业。